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硬實力贏得現(xiàn)場關(guān)注 韞茂科技亮相慕尼黑上海光博會

2024-03-26 15:26:07來源:化工儀器網(wǎng)關(guān)鍵詞:上海光博會閱讀量:1331
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導(dǎo)讀:廈門韞茂科技有限公司憑借自身過硬的實力,在本屆光博會脫穎而出,成為焦點之一。

  2024年3月20日,慕尼黑上海光博會在上海新博覽中心順利舉行。本次展會展出面積超80000平方米,邀請了來自全球23個國家和地區(qū)的1160家展商共聚上海,吸引了國內(nèi)外超9萬名觀眾參觀。展商及觀眾對本屆光博會都給予了高度評價。其中,廈門韞茂科技有限公司憑借自身過硬的實力,在本屆光博會脫穎而出,成為焦點之一。
 
廈門韞茂科技有限公司展位
 
  廈門韞茂科技有限公司(以下簡稱:韞茂科技)成立于2018年,是一家以納米級薄膜沉積工藝技術(shù)為核心的多領(lǐng)域全棧式薄膜沉積方案供應(yīng)商,致力于為客戶提供全方位的技術(shù)解決方案以及先進的納米材料薄膜沉積裝備。
 
  一直以來,韞茂科技都堅持在技術(shù)上尋求突破,專注于將前沿技術(shù)融入到產(chǎn)品生產(chǎn)中,從先進制造國產(chǎn)化痛點著手,以自主創(chuàng)新打開國內(nèi)高端產(chǎn)品市場。目前已形成了以ALD原子層成膜系統(tǒng)、PVD物理氣相沉積系統(tǒng)、CVD化學(xué)氣相系統(tǒng)、Epitaxy外延爐等一系列薄膜沉積設(shè)備為核心的產(chǎn)品矩陣。
 
  而在本次展會現(xiàn)場,韞茂科技重點展示了PBATCH批次型等離子體ALD,吸引了眾多觀眾前來咨詢與交流。
 
  PBATCH批次型等離子體ALD
 
  PBATCH實現(xiàn)低溫高質(zhì)量PEALD工藝,可應(yīng)用在高分子材料襯底等溫度敏感的襯底,制備氧化物、氮化物、金屬層等應(yīng)用,最大可支持多片12寸樣品。而ALD沉積速率低,限制了生產(chǎn)效率,批次性ALD可大幅提高ALD產(chǎn)能,降低客戶使用成本。
 
 
  產(chǎn)品亮點
 
  •全自動、多片、大批量生產(chǎn);
 
  •批次等離子體ALD可為客戶帶來更多功能性薄膜選擇;
 
  •可提高ALD產(chǎn)能,降低客戶使用成本,實現(xiàn)極致COO;
 
  •可在光學(xué)薄膜沉積上實現(xiàn)設(shè)備國產(chǎn)化替代;
 
  •工業(yè)標(biāo)準安全互鎖、報警、EMO。
 
  CBATCH 300S 新型多片批次型ALD
 
  多片批次式ALD,能夠?qū)崿F(xiàn)全自動、多片、連續(xù)化生產(chǎn),有效提高產(chǎn)能,降低COO。并且多片批次式ALD能夠?qū)崿F(xiàn)原子級別的精確控制,ALD沉積薄膜無針孔,質(zhì)量高,可作為高K值介質(zhì)層,金屬層,封裝層,電鍍種子層及其他功能層應(yīng)用,廣泛應(yīng)用于Mini/Micro LED、第三代半導(dǎo)體以及集成電路制造等領(lǐng)域。
 
 
  產(chǎn)品亮點
 
  •3D鍍膜實現(xiàn)原子級別精確控制
 
  •高度精度、高重復(fù)性全自動上下料傳輸
 
  •全自動、多片、連續(xù)化生產(chǎn),有效提高產(chǎn)能,降低COO
 
  •實現(xiàn)超高深寬比(1000:1)結(jié)構(gòu)的鍍膜,ALD沉積薄膜無針孔,質(zhì)量高
 
  自成立以來,韞茂科技始終將實現(xiàn)客戶價值觀作為企業(yè)使命,以成本低、質(zhì)量高、品種新、服務(wù)優(yōu)、交期準為專業(yè)基礎(chǔ),以客戶為中心,主動了解客戶需求,努力為顧客提供全面針對性的解決方案。未來公司也將繼續(xù)將目光聚焦于填補部分國家高端裝備的空缺,為大眾提供更好用更實惠的產(chǎn)品。
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