PL—DW200表面處理真空等離子清洗機(jī)可用于清洗、刻蝕、磨砂和表面準(zhǔn)備等?？蛇x擇40KHz、13.56MHz和2.45GHz三種射頻發(fā)生器，以適應(yīng)不同的清洗效率和清洗效果需要。
等離子清洗機(jī)/刻蝕機(jī)具有成本低廉、操作靈活的特點(diǎn)，主要適合于高科技生產(chǎn)單位的以下場(chǎng)合：
? 半導(dǎo)體開(kāi)發(fā)
? 集成電路開(kāi)發(fā)
? 真空電子行業(yè)
? TEM、SEM樣品及支架清洗
? 生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)

半導(dǎo)體等離子表面活化PL—DW200

PL—DW200表面處理真空等離子清洗機(jī)
PL—DW200表面處理真空等離子清洗機(jī)可用于清洗、刻蝕、磨砂和表面準(zhǔn)備等。可選擇40KHz、13.56MHz和2.45GHz三種射頻發(fā)生器，以適應(yīng)不同的清洗效率和清洗效果需要。
等離子清洗機(jī)/刻蝕機(jī)具有成本低廉、操作靈活的特點(diǎn)，主要適合于高科技生產(chǎn)單位的以下場(chǎng)合：
• 半導(dǎo)體開(kāi)發(fā)
• 集成電路開(kāi)發(fā)
• 真空電子行業(yè)
• TEM、SEM樣品及支架清洗
• 生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)

　　等離子清洗/刻蝕機(jī)具有以下特點(diǎn)：
• 可以更靈活地操作，簡(jiǎn)便地改變處理氣體的種類和處理程序。
• 不會(huì)對(duì)操作人員的身體造成任何傷害。
• 其成本對(duì)于等離子處理方法來(lái)說(shuō)是微不足道的。
　　等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合。通過(guò)其處理，能夠改善材料表面的潤(rùn)濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。

• 不銹鋼艙體：400mm×400mm×650mm
• 容量：200 升
• 處理過(guò)程：分手動(dòng)與自動(dòng)控制
• 功率：500W
• 電源：AC380V
• 射頻電源：主頻40KHz