智能勻膠機(jī) 型號：SC-100

主要適用于半導(dǎo)體硅片、晶片、ITO導(dǎo)電玻璃、光學(xué)玻璃等工藝制版及表面涂覆，各種光刻膠表面膜制備。

智能勻膠機(jī)   型號：SC-100

 主要適用于半導(dǎo)體硅片、晶片、ITO導(dǎo)電玻璃、光學(xué)玻璃等工藝制版及表面涂覆，各種光刻膠表面膜制備。  
 

主要技術(shù)指標(biāo)
 系統(tǒng)支持10個工藝組存儲，每個工藝組可設(shè)置4段運(yùn)行速度及運(yùn)行時間 
  勻膠速度：  0～8000rmp可調(diào) 
  勻膠時間：  1～9999s任意時間可設(shè)置 
  旋轉(zhuǎn)加速度：0～12000rpm/sec   由低速到高速加速時間0.1s～0.5s 
  轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度：±1rmp 
  涂膠均勻性：±3% 
  可鍍膜尺寸：Ф5～Ф150mm（6〞） 
  基片厚度：  ≤5mm 
 

其 它 配 置設(shè)備配置Ф260mm接膠裝置（不銹鋼材質(zhì)） 
電機(jī)額定功率90W，額定轉(zhuǎn)速8000rmp 
真空系統(tǒng)：FY-1C真空泵一臺，抽氣速率60L/min(標(biāo)配) 
  AP-500V無油真空泵，抽氣速率100L/min（選配） 
樣片托：隨機(jī)配1英寸一個，2英寸一個，其它規(guī)格尺寸按要求定做。 
輸入電源： AC220V/240V  50HZ 
機(jī)身尺寸： 280×360×240mm 
機(jī)身重量：10Kg

智能勻膠機(jī) 

產(chǎn)品名稱：離子去膠機(jī) 產(chǎn)品型號：PR-3

離子去膠機(jī) 型號：PR-3

通過等離子體方法，對陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進(jìn)行干法去除。設(shè)備為單室真空系統(tǒng)，主要由真空系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、報警系統(tǒng)等部分組成。  
射頻電源采用RF500W電源控制。  
氣路系統(tǒng)采用兩臺浮子流量計控制氣體進(jìn)氣。 
  腔室結(jié)構(gòu)：臥式、純石英 
  真空室規(guī)格：F210´300mm 
  限真空：1Pa（環(huán)境濕度≤55%） 
  真空系統(tǒng):機(jī)械泵 
  大裝片直徑: F4英寸 
   大裝片容量：4英寸 25片/爐 
  去膠速率: ～500A/min 
  去膠不均勻性：≤±5％ (φ4吋范圍內(nèi)) 
  操作方式:手動方式 
用戶可選配全自動控制方式