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美國Thermal Technology自動熱處理爐(APF Automatic Processing Furnace systems)與陶瓷熱處理爐(CPF Ceramic Processing Furnace systems)可實(shí)現(xiàn)全自動、無人值守操作，可定制溫度達(dá)2500℃。工件熱處理循環(huán)時(shí)升溫速率100℃/min，降溫速率可達(dá)300℃/min。氫氣爐/高真空爐可選?？稍跔t頂與爐底裝備加熱器，整個(gè)熱區(qū)的溫度均勻性*。美國Thermal Technology的APF與CPF系列爐具適于對高純度的*陶瓷材料進(jìn)行熱處理，避免了其對傳統(tǒng)石墨爐污染的敏感性。APF與CPF的高真空和高溫使其也適于難熔金屬的加工。不含真空泵的APF與CPF可以通入惰性或還原性氣氛。 系統(tǒng)組成：真空腔，金屬熱區(qū)，電源，真空泵，可編程控制系統(tǒng)；可定制升級。 系統(tǒng)的熱區(qū)可在多種環(huán)境內(nèi)工作：濕/干氫氣、離解干氨、惰性氣體、氮?dú)?、真空等。加熱體根據(jù)不同的工作溫度使用鉬片、鉬網(wǎng)、鎢網(wǎng)等，表面積大，可提高工作區(qū)的溫度均勻性。多種產(chǎn)量、溫度、處理能力可選，滿足您的多種需求。
APF與CPF系列產(chǎn)品特點(diǎn)
* *的溫度均勻性 * 快速的循環(huán)時(shí)間 * 精準(zhǔn)的編程與控制 * 處理進(jìn)程序列控制 * 易于裝料 * 自動處理 * 性能穩(wěn)定 * 可同時(shí)作為高溫真空爐 | * 溫度高達(dá)2500°C * 快速的熱響應(yīng) * 露點(diǎn)檢測與控制 * 濕/干 氫氣氛 * 對參數(shù)變化的快速響應(yīng) * 多種尺寸、產(chǎn)能可選 * 可供燒金屬化陶瓷 * 精確控制氣氛防護(hù) |
加熱體 | 輻射屏蔽 | 大溫度 | 常規(guī)溫度 |
鎢 | 鎢&鉬 | 2500°C | 2200°C |
鉬 | 鉬&不銹鋼 | 1700°C | 1600°C |
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