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TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀

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產(chǎn)品簡介:TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀是一款利用反射光譜測試薄膜厚度的儀器,可快速精確地測量透明或半透明薄膜的厚度而不損傷樣品表面的薄膜是一款無損測厚儀,其測量膜厚范圍為15nm-50um測量膜厚范圍廣,尤其適用于超薄薄膜厚度的測量。儀器所發(fā)出測試光的波長范圍為400nm-1100nm,波長范圍廣,因此,測試薄膜厚度的范圍廣。TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀測試系統(tǒng)理論基礎(chǔ)為鏡面纖反射探頭,該儀器尺寸小巧可節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間,操作方便,讀數(shù)直觀,方便于在實(shí)驗(yàn)室中擺放和使用。

 

產(chǎn)品名稱

  TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀

產(chǎn)品型號

TFMS-LD

測量膜厚范圍

15nm-50um

光譜波長

400 nm - 1100 nm

主要測量透明或半透明薄膜厚度

氧化物

氮化物

光刻膠

半導(dǎo)體(硅,單晶硅,多晶硅等)

半導(dǎo)體化合物(ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS等)

硬涂層(碳化硅,類金剛石炭)

聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)

金屬膜

        

特點(diǎn)

測量和數(shù)據(jù)分析同時進(jìn)行,可測量單層膜,多層膜,無基底和非均勻膜

包含了500多種材料的光學(xué)常數(shù),新材料參數(shù)也可很容易地添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等

體積較小,方便擺放和操作

可測量薄膜厚度,材料光學(xué)常數(shù)和表面粗糙度

使用電腦操作,界面中點(diǎn)擊,即可進(jìn)行測量和分析

精度

0.01nm或0.01%

準(zhǔn)確度

0.2%或1nm

穩(wěn)定性

0.02nm或0.02%

光斑尺寸

標(biāo)準(zhǔn)3mm,可以小至3um

要求樣品大小

大于1mm

分光儀/檢測器

400 - 1100 nm 波長范圍

光譜分辨率: < 1 nm

電源 100 -250 VAC, 50/60 Hz 20W

光源

5W的鎢鹵素?zé)?/span>

色溫:2800K

使用壽命:1000小時

反射探針

光學(xué)纖維探針,400um纖維芯

配有分光儀和光源支架

載樣臺

測量時用于放置測量的樣品

 

通訊接口

USB接口,方便與電腦對接

TFCompanion軟件

強(qiáng)大的數(shù)據(jù)庫包含兩500多種材料的光學(xué)常數(shù)(n:折射率,K:消失系數(shù))

誤差分析和模擬系統(tǒng),保證在不同環(huán)境下對樣品測量的準(zhǔn)確性

可分析簡單和復(fù)雜的膜系

 

設(shè)備尺寸

200x250x100mm

重量

4.5kg


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