nanoArch P140是可以實(shí)現(xiàn)實(shí)現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng)，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng)，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢，被認(rèn)為是目前前景的微納加工技術(shù)之一。

開啟微納3D精密制造之門

BMF nanoArch® P140 系統(tǒng)簡介

nanoArch P140是可以實(shí)現(xiàn)實(shí)現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng)，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng)，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢，被認(rèn)為是目前前景的微納加工技術(shù)之一。

科研級(jí)3D打印系統(tǒng)

nanoArch® P140 系統(tǒng)性能

打印材料

通用型

丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。

個(gè)性化

405nm固化波段的光敏樹脂材料 ，支持透明樹脂，柔性樹脂，硬性樹脂，納米顆粒摻雜復(fù)合樹脂，4D打印樹脂，生物醫(yī)療樹脂等，需適配不同的工藝和模型，不保證打印性能

高精度
（XY打印精度高達(dá)10μm）

低層厚
（10μm~40μm的打印層厚）

微尺度大幅面的打印能力

光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，自動(dòng)對(duì)焦功能

優(yōu)良的光源穩(wěn)定性

配備完善的樣品后處理組件包括抽真空及紫外后固化

應(yīng)用案例