產(chǎn)品應用：PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。

產(chǎn)品應用：

PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。

產(chǎn)品組成：

PECVD系統(tǒng)配置：

1.1200度開啟式雙溫區(qū)真空管式爐

2.滑動系統(tǒng)分為手動、電動滑動，并配置管內(nèi)測溫系統(tǒng)。

3.預加熱開啟式管式電爐

4.等離子射頻電源

5.多路質量流量控制系統(tǒng)

6.真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）  

產(chǎn)品特點：

生長溫度低；沉積速率快；成膜質量好，適用范圍廣，設備簡單。