• 更大的批量生產(chǎn)能力

• 高產(chǎn)量

• 更穩(wěn)定的器件質(zhì)量

• 低購置成本

• 提供單晶圓傳送腔室或者多至三個腔室的集群式配置

• 標(biāo)準(zhǔn)的真空傳送腔室，具有直開式和集群式選項

• 出色的正常運轉(zhuǎn)時間

• 高質(zhì)量器件性能和良率

特點

PlasmaPro 1000設(shè)備能為LED生產(chǎn)商提供更好的行業(yè)優(yōu)勢

490mm電極 - 更為先進的批量規(guī)模，多達7 x 6”晶圓，提供了更高的產(chǎn)量

可靠的硬件系統(tǒng)易維護性 - 出色的正常運轉(zhuǎn)時間

壓盤 - 增強晶圓冷卻

Z向可移動電極 - 更好的均勻性

雙進氣口 - 易于工藝調(diào)整

特殊的載盤設(shè)計 - 每片晶圓在最小的邊緣去除區(qū)域之內(nèi)，均獲得有效的冷卻，且易于使用和維護

高導(dǎo)通的徑向（軸對稱）抽氣結(jié)構(gòu) - 確保提升了工藝均勻性和速率

應(yīng)用

• 高質(zhì)量PECVD沉積氮化硅和二氧化硅，用于光子學(xué)、電介質(zhì)層、鈍化以及諸多其它用途
• 用于高亮度LED生產(chǎn)的硬掩模沉積和刻蝕