原子層沉積 (ALD) 是一種真正的納米技術(shù), 可以準(zhǔn)確可靠地沉積僅幾個(gè)納米厚的超薄薄膜。等離子體可以實(shí)現(xiàn)出色的表面預(yù)處理, 控制薄膜性質(zhì)以及作為種類廣泛的沉積源。牛津儀器 FlexAL原子層沉積（ALD）系統(tǒng)可提供遠(yuǎn)程等離子體原子層沉積（ALD），這為納米結(jié)構(gòu)和器件的工程設(shè)計(jì)提供了一系列新的靈活性和可行性。
牛津儀器 FlexAL原子層沉積（ALD）系統(tǒng)涵蓋的系列設(shè)備可以滿足學(xué)術(shù)界、企業(yè)研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)的多種需求。

• 在同一設(shè)備中可靈活使用遠(yuǎn)程等離子體與熱ALD

• 集群式配置保證始終于真空下傳送襯底

• 盒式對盒式操作可提高產(chǎn)能以適于量產(chǎn)

• 對材料和氣體/液體源的選擇具有更大的靈活性

• 等離子體ALD可進(jìn)行低溫工藝

• 使用遠(yuǎn)程等離子體以確保低損傷

• 通過配方驅(qū)動(dòng)的軟件界面實(shí)現(xiàn)可控的和可重復(fù)的工藝

• 可處理高達(dá)200mm的晶圓

牛津儀器 FlexAL原子層沉積（ALD）系統(tǒng)特點(diǎn)

牛津儀器有大量的工藝儲(chǔ)備，并且還在不斷開發(fā)新的工藝。我們?yōu)樗械腁LD設(shè)備提供的、延續(xù)不斷的工藝支持，我們還將為您提供關(guān)于開發(fā)新材料的建議，同時(shí)繼續(xù)與您共享包括新工藝配方在內(nèi)的新的ALD工藝進(jìn)展。

氣體/液體源前驅(qū)體模式上 - 一體化手套箱 —— 實(shí)時(shí)轉(zhuǎn)換

一體化端口 - 允許添加實(shí)時(shí)橢偏儀測量工具

集群式配置 - 始終于真空下傳送襯底

盒式對盒式操作 - 可提高產(chǎn)能以適于量產(chǎn)

機(jī)器手臂與片盒式 - 可處理100mm，150mm或200mm晶圓（無需額外設(shè)備進(jìn)行晶圓交換）

所有系統(tǒng)都可以放置于超凈間內(nèi)或嵌入墻體 - 易于放置

自動(dòng)化的200mm晶圓真空傳送 - 工藝靈活性

牛津儀器 FlexAL原子層沉積（ALD）系統(tǒng)應(yīng)用

• 納米電子
• 高K柵氧化物
• 存儲(chǔ)電容電介質(zhì)
• 用于Cu互連的高深寬比擴(kuò)散隔層
• 用于OLED和聚合物的無針孔鈍化層
• 用于晶體硅太陽能電池的鈍化
• 用于微流體和MEM的高保形涂層
• 納米多孔結(jié)構(gòu)的涂層
• 生物MEMS
• 燃料電池
• 學(xué)習(xí)
• 原子尺度工藝