離子拋光技術(shù)通常采用惰性氣體 氬，通過(guò)將氬氣離子化后，在電場(chǎng) 加速作用下轟擊到樣品表面，利用 動(dòng)量轉(zhuǎn)移的方式進(jìn)行可控速率條件下，物理濺射轟擊的方式對(duì)樣品表面進(jìn)行精細(xì)拋光處理，滿(mǎn)足掃描電 鏡/EBSD等表面敏感分析技術(shù)制樣需求子拋光技術(shù)通常采用惰性氣體 氬，通過(guò)將氬氣離子化后，在電場(chǎng) 加速作用下轟擊到樣品表面，利用動(dòng)量轉(zhuǎn)移的方式進(jìn)行可控速率條件 下，物理濺射轟擊的方式對(duì)樣品表 面進(jìn)行精細(xì)拋光處理，滿(mǎn)足掃描電鏡/EBSD等表面敏感分析技術(shù)制樣需求。

? 兩支獨(dú)立可調(diào)電磁聚焦離子槍 

? 同時(shí)具備高能量(快速拋光)和低能量(精細(xì)修復(fù)) 

? 超寬加速電壓范圍：100eV到10kV，不同加速電壓下， 離子束束斑均保持最細(xì)束斑狀態(tài) 

? 每支離子槍均配備對(duì)應(yīng)法拉第杯進(jìn)行離子束直接探測(cè) 

? 采用可調(diào)節(jié)10英寸觸屏控制系統(tǒng)，人機(jī)界面友好，操作 簡(jiǎn)潔 

? 配備橫截面切割裝載及定位工具 

? 配備磁編碼器，帶有樣品測(cè)厚功能，自動(dòng)匹配拋 光位置，保證的拋光質(zhì)量和效率 

? 拋光角度范圍：0°到 +10°連續(xù)可調(diào) 

? 具備原位實(shí)時(shí)觀察及記錄拋光過(guò)程功能 

? 樣品可360°連續(xù)旋轉(zhuǎn)或搖擺，離子束自動(dòng)避讓樣品夾 

? 可通過(guò)時(shí)間或溫度自動(dòng)停止 

? 可選液氮冷臺(tái)配置，去除熱效應(yīng)對(duì)樣品的損傷 

? 可選真空或惰性氣體轉(zhuǎn)移裝置，隔絕樣品與水氧接觸