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概述
在OpticStudio的序列模式中,您可以在不影響其他面的情況下使用虛擬面 (dummy surface)和求解類(lèi)型:拾取 (pickup)在透鏡數(shù)據(jù)編輯器 (LDE)及布局圖 (Layout)中顯示系統(tǒng)的入瞳和出瞳。這篇文章介紹了如何在透鏡數(shù)據(jù)編輯器中使用ZPL宏和主光線(xiàn)高度 (Chief Ray Height)求解厚度,以及如何在編輯器中隱藏虛擬面。
介紹
為了在透鏡數(shù)據(jù)編輯器和布局圖中顯示入瞳和出瞳面,我們需要在透鏡編輯器中插入虛擬面來(lái)模擬光瞳的位置。本文使用OpticStudio自帶的Double Gauss 28 degree field.ZMX文件作為示例,該文件位于Zemax根目錄下Samples > Sequential > Objectives文件夾中。對(duì)于序列系統(tǒng),您可以在分析 (Analyze)選項(xiàng)卡 > 報(bào)告 (Report) > 詳細(xì)數(shù)據(jù) (Prescription Data)的報(bào)告中查看系統(tǒng)光瞳的數(shù)據(jù)。
對(duì)于本系統(tǒng)來(lái)說(shuō),光瞳數(shù)據(jù)如下所示:
在OpticStudio中,入瞳位置總是參考于表面1,出瞳位置總是參考于像面的。為了減少對(duì)系統(tǒng)的改變,我們需要現(xiàn)在第yi片透鏡前及像面前分別插入一個(gè)虛擬面。
根據(jù)光瞳的定義,光瞳的位置位于主光線(xiàn)與光軸的交點(diǎn)處,或者為主光線(xiàn)高度為0的地方。OpticStudio內(nèi)置了便捷的厚度求解功能,該功能可以快速求解特定表面的厚度以滿(mǎn)足近軸主光線(xiàn)在該表面處的高度為零。需要特別注意的是,這個(gè)求解類(lèi)型與其他求解類(lèi)型一樣,需要設(shè)置在光闌面 (STOP)之后。因此我們只能使用厚度求解計(jì)算出瞳位置。對(duì)于入瞳位置,我們可以使用ZPL宏求解進(jìn)行計(jì)算。OpticStudio內(nèi)置的求解類(lèi)型:光瞳位置 (Pupil Position)使用實(shí)際傍軸光線(xiàn)進(jìn)行計(jì)算而非近軸光線(xiàn),因此可以用于離軸系統(tǒng)或使用近軸光線(xiàn)無(wú)法準(zhǔn)確計(jì)算光瞳位置的系統(tǒng)。但在這篇文章中,我們采用主光線(xiàn)高度的計(jì)算方法,因?yàn)榻S光線(xiàn)(計(jì)算迭代周期更少)和實(shí)際光線(xiàn)(計(jì)算穩(wěn)定性更強(qiáng))的計(jì)算結(jié)果偏差很小,在六位小數(shù)點(diǎn)精度之內(nèi)。
在開(kāi)始設(shè)置之前,我們需要插入四個(gè)虛擬面,其中兩個(gè)面在表面1之前,兩個(gè)在像面之前。本文將以D1-D4表示這些表面:
在開(kāi)始實(shí)際計(jì)算之前,我們首先需要對(duì)這些表面進(jìn)行設(shè)置。分別設(shè)置D2和D4表面厚度的求解類(lèi)型為拾取,使其分別拾取D1和D3的厚度,并設(shè)置縮放比例為-1。完成后您將會(huì)看到厚度參數(shù)的求解類(lèi)型標(biāo)記為“P”:
然后我們需要設(shè)置這四個(gè)表面及D2的下一個(gè)表面(下表標(biāo)記為D2+1)的表面屬性 (Surface Properties),以使OpticStudio只畫(huà)出這些表面而不畫(huà)出經(jīng)過(guò)這些表面的光線(xiàn)。您需要在表面屬性中的繪圖 (Draw)選項(xiàng)卡中進(jìn)行如下設(shè)置:
現(xiàn)在讓我們先設(shè)置比較容易的出瞳面位置。您只需要選中D3面,設(shè)置該表面的厚度求解類(lèi)型為主光線(xiàn)高度 (Chief Ray Height)并保持高度值為0。設(shè)置完成后該厚度參數(shù)后會(huì)出現(xiàn)標(biāo)記“C”。此時(shí)主光線(xiàn)的參考球面的曲率半徑與出瞳面的厚度相同。因此您可以設(shè)置D4面的曲率半徑拾取D3面的厚度并設(shè)置縮放比例為-1:
對(duì)于入瞳位置的確定,我們需要使用ZPL宏求解。首先,在界面上方導(dǎo)航欄的編程選項(xiàng)卡中點(diǎn)擊新建宏 (New Macro)創(chuàng)建一個(gè)新的宏,并以L(fǎng)DE_EP為文件名保存。在這段宏程序中復(fù)制粘貼下面這段代碼:
SOLVEBEFORESTOP
SOLVERETURN OPEV(OCOD("ENPP"),0,0,0,0,0,0)
如果宏無(wú)需使用光線(xiàn)追跡的數(shù)據(jù)并且該宏求解需要設(shè)置在光闌面之前時(shí),關(guān)鍵詞 (Keywords)“SOLVEBEFORESTOP”需要編寫(xiě)在ZPL宏的第yi行,如上段代碼所示。當(dāng)宏需要使用光線(xiàn)追跡的數(shù)據(jù)時(shí),使用該關(guān)鍵詞進(jìn)行的一些計(jì)算將不再有效,您可以瀏覽用戶(hù)手冊(cè)詳細(xì)了解如何正確使用“SOLVEBEFORESTOP”。數(shù)值函數(shù) (Numeric Functions) “OPEV(OCOD())”的組合是一個(gè)非常有效的方法來(lái)提取現(xiàn)有優(yōu)化函數(shù)操作數(shù)所能計(jì)算的數(shù)值結(jié)果,而不用在優(yōu)化函數(shù)編輯器中設(shè)置。
選中表面D1,設(shè)置厚度求解類(lèi)型為ZPL宏 (ZPL Macro)并在宏名稱(chēng)一欄輸入“LDE_EP”(輸入時(shí)不帶引號(hào)),需要注意的是該宏程序并非只能用于當(dāng)前系統(tǒng),還可以應(yīng)用到其他系統(tǒng)之中:
現(xiàn)在您可以在布局圖中查看表示系統(tǒng)入瞳和出瞳的兩個(gè)虛擬面:
在某些系統(tǒng)中這個(gè)方法并不適用,例如在物方遠(yuǎn)心系統(tǒng)中系統(tǒng)入瞳位于物方無(wú)窮遠(yuǎn)處,因此光瞳無(wú)法在布局圖中顯示。
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2025廣州國(guó)際分析測(cè)試及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備展覽會(huì)暨技術(shù)研討會(huì)
展會(huì)城市:廣州市展會(huì)時(shí)間:2025-03-05