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【儀器網(wǎng) 產(chǎn)品文庫】橢偏儀是一種用于探測薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)的光學(xué)測量儀器。
橢偏儀發(fā)展展望
橢偏測量具有非接觸性、非破壞性、測量精度高和適于測量較薄膜層的特點(diǎn)，成為了半導(dǎo)體工業(yè)常用的薄膜測量工具。由于半導(dǎo)體制造業(yè)在器件關(guān)鍵尺寸上的測量要求越來越，薄膜常用材料日益多樣化，薄膜的結(jié)構(gòu)越來越復(fù)雜，需要進(jìn)一步改進(jìn)橢偏儀。目前橢偏儀的主要發(fā)展趨勢包括:
1、尋找較高強(qiáng)度的紅外光源，拓寬橢偏儀的光譜范圍，以準(zhǔn)確確定異質(zhì)結(jié)構(gòu)的多層膜結(jié)構(gòu);
2、建立包含成像橢偏儀的校準(zhǔn)因素的系統(tǒng)模型，以減小成像橢偏儀的測量誤差;
3、對(duì)半導(dǎo)體工業(yè)常用薄膜材料建立準(zhǔn)確的物理模型，以減小系統(tǒng)的計(jì)算誤差;
4、引入能夠同步進(jìn)行數(shù)據(jù)獲取和數(shù)據(jù)處理的控制系統(tǒng)，并利用優(yōu)化算法，較快得出薄膜系統(tǒng)待求參量，以提高橢偏儀的測量速度，增強(qiáng)橢偏儀的在線檢測和控制功能。
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