離子氮化爐可實(shí)現(xiàn)局部氮化，工件變形zui小，表面光滑、無(wú)需后續(xù)加工，可以精確控制滲層結(jié)構(gòu)，在低溫下就可以實(shí)現(xiàn)材料氮化。

離子氮化及離子后氧化：

可實(shí)現(xiàn)局部氮化、精確的工藝可重現(xiàn)性、工件變形zui小、均勻的氮化層分布、光滑表面無(wú)需后續(xù)加工、低摩擦系數(shù)、精確控制的滲層結(jié)構(gòu)、高耐磨性及防腐蝕性、低溫氮化。

優(yōu)勢(shì)：

熱壁技術(shù)：多區(qū)加熱和冷卻，溫度均勻性好；*的精確控溫技術(shù)；高效的快速加熱和冷卻。

*的電源技術(shù)

工藝自動(dòng)化：電腦顯示屏可視性參數(shù)輸入；操作和工藝自動(dòng)運(yùn)行。

鈦合金離子氮化