新型MK52系列隔振控制平臺，符合人體工學(xué)設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)，適配于超低固有頻率模式下的各方面應(yīng)用。Kinetic Systems, Inc.（簡稱KSI）通過使用Minus K負(fù)剛度隔振技術(shù)，能夠提供穩(wěn)固緊湊的被動隔振平臺，擁有超低固有頻率、更高內(nèi)結(jié)構(gòu)頻率和優(yōu)良的垂直和水平隔振效率。

新型MK52系列隔振控制平臺，符合人體工學(xué)設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)，適配于超低固有頻率模式下的各方面應(yīng)用。Kinetic Systems, Inc.（簡稱KSI）通過使用Minus K負(fù)剛度隔振技術(shù)，能夠提供穩(wěn)固緊湊的被動隔振平臺，擁有超低固有頻率、更高內(nèi)結(jié)構(gòu)頻率和優(yōu)良的垂直和水平隔振效率。升級的MK52系列能夠提供更好的客戶舒適度，增加額外的腿部空間。

Minus K垂直隔振器使用一個牽引彈簧和負(fù)剛度機械結(jié)構(gòu)，能夠在不影響靜態(tài)載荷能力的情況下，達到較低的垂直剛性。

MK52系列是在高性能MK26系列基礎(chǔ)上設(shè)計實現(xiàn)的，提出雙隔振器概念，能夠通過一個可擴展的工作平面實現(xiàn)優(yōu)良的隔振效率。但調(diào)整到 0.5 Hz 固有頻率，系統(tǒng)的隔振效率可達93%，2 Hz；99%，5 Hz；99.7%，10 Hz。

MK52系列隔振平臺可以根據(jù)不同的應(yīng)用需要，進行選擇性配置，客戶也可以根據(jù)需要進行定制隔振平臺。

MK52系列典型的隔振控制應(yīng)用

MK52系列能和很多設(shè)備儀器搭配使用，且能達到極其優(yōu)良的性能表現(xiàn)，如高精分析天平，細(xì)胞接種，共聚焦顯微鏡，膜片箝，光學(xué)顯微鏡，圓晶針測，原子力顯微鏡等。同時在其他研究領(lǐng)域也有很廣泛的應(yīng)用，如半導(dǎo)體過程處理，通信，航空航天和醫(yī)學(xué)研究等。

產(chǎn)品概述和特點

人體工學(xué)設(shè)計；

超低固有頻率；

阻尼振動結(jié)構(gòu)設(shè)計；

可定制配件；

無需提供氣源-易于使用；

可選桌面；

適配Class100潔凈室；

Class10可選。

技術(shù)參數(shù)