真空快速退火爐 （RTP）為德國(guó)優(yōu)尼坦公司生產(chǎn)，分為RTP-100, RTP-150, RSO-200,VPO-300共四個(gè)型號(hào)，分別對(duì)應(yīng)4英寸、6英寸、8英寸、12英寸的真空快速退火爐產(chǎn)品。

真空快速退火爐 (RTP)技術(shù)規(guī)格：

- 額定溫度：1200攝氏度；

- 升溫速率：150攝氏度/秒；

- 降溫速度：200攝氏度/分鐘 (1000攝氏度-->400攝氏度)；

- 溫控均勻性：≤ 1.5%設(shè)定溫度；

- 加熱方式：紅外鹵素?zé)?，頂部及底部加熱?/p>

- 燈管數(shù)量及功率：18支/20千瓦(RTP-100)，24支/21千瓦(RTP-150)；

- 腔體冷卻：水冷方式；

- 襯底冷卻：氮?dú)獯祾撸?/p>

- 工藝氣路：MFC控制，多4路 (氮?dú)?、氬氣、氧氣、氫氮混合氣?；

- 主機(jī)尺寸及重量：505mm x 504mm x 420mm (W x D x H)，約55Kg；

真空快速退火爐 (RTP)儀器特點(diǎn)：

- 真空快速退火爐，有低真空型號(hào)(10-3 hPa)、高真空型號(hào)(10-6 hPa)；

- 可在不同氣氛環(huán)境下使用，如惰性氣體、氧氣、氫氮混合氣等；

- 控制方式：SIMATIC, SPS人機(jī)界面控制，7英寸觸摸屏；

- 可存儲(chǔ)50個(gè)程序，每個(gè)程序多分為50段控制；

- 全自動(dòng)智能控制，包括溫度、時(shí)間、氣體流量、真空度、循環(huán)水均可自動(dòng)設(shè)置；

- 優(yōu)異的溫控均勻性，的工藝重現(xiàn)性；

- 小尺寸臺(tái)式設(shè)計(jì)；

應(yīng)用領(lǐng)域：

- 離子注入/接觸退火；

- 快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN)；

- 可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同環(huán)境下使用；

- SiAu, SiAl, SiMo合金化；

- 低介電材料；

- 晶體化，致密化；

- 太陽能電池片鍵合；

等等...

參考客戶：

西安交通大學(xué)、西安電子科技大學(xué)、中國(guó)科技大學(xué)、江漢大學(xué)、中科院上海技術(shù)物理所、中科院蘇州納米所、北京航天儀器研究所、京東方、武漢光迅、能華微電子等。