EDX-8300H X熒光光譜儀規(guī)格：1.元素分析范圍:鈉-鈾（NA-鈾）抽真空2.元素含量分析范圍：1PPM~99.99%3.Z低檢出限：1PPM

EDX-8300H X熒光光譜儀規(guī)格：

1.元素分析范圍:鈉-鈾（NA-U）抽真空

2.元素含量分析范圍：1PPM~99.99%

3.低檢出限：1PPM

4.能量分辨率129±5ev

5.樣品腔尺寸：520*310*120（MM)

6.多次量測(cè)重復(fù)性（以標(biāo)準(zhǔn)樣品為準(zhǔn)）：±0.05%（高含量）

                                                        ±0.002%（微量）

 *工作穩(wěn)定性（以標(biāo)準(zhǔn)樣品為準(zhǔn)）：±0.05%（高含量）

                                                        ±0.0025%（微量

EDX-8300H X熒光光譜儀應(yīng)用區(qū)域

1.ROHS\無(wú)鹵檢測(cè)指令

  CD ＜100   PB＜1000

  HG ＜1000 Cr6 ＜1000

  PBBS ＜1000

 PBDEs ＜1000

2.合金分析領(lǐng)域

   銅合金 不銹鋼 AL 鍍層

3.包裝指令檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)（94/62/EC)

   CD PB Hg Cr6 ＜100

4.玩具指令檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)

    EN71-3

5 .鍍層成分分析

    鍍層厚度分析

    鍍層環(huán)保檢測(cè)