下出料真空電阻爐包括雙層水冷爐殼，水冷電極，加熱體，溫度測量裝置，冷卻水裝置，真空系統(tǒng)，電源和控制系統(tǒng)。

高真空電阻爐（VRF）

一、高真空電阻爐是專門為工業(yè)和研究應(yīng)用而設(shè)計制造的，可應(yīng)用于

■真空退火，脫氣和精煉

■金屬和陶瓷的燒結(jié)

■液相燒結(jié)和金屬浸漬

■真空釬焊和活性金屬釬焊

■真空材料測試

每個VRF爐的尺寸和配置是針對特定的工藝和應(yīng)用，

如工作區(qū)尺寸、結(jié)構(gòu)布局、真空系統(tǒng)、熱區(qū)和加熱電源。

高真空可通過擴散泵或渦輪分子泵機組來實現(xiàn)。

二、產(chǎn)品描述

■真空電阻加熱爐包括雙層水冷爐殼，水冷電極，加熱體，溫度測量裝置，冷卻水裝置，真空系統(tǒng)，電源和控制系統(tǒng)

■可選配強制快速循環(huán)冷卻裝置；脫蠟裝置和氣氛控制裝置。

■爐體采用立式或臥式結(jié)構(gòu)設(shè)計；加熱控制區(qū)的數(shù)量最多可以達到6個（或更多），通過調(diào)整這些熱區(qū)的數(shù)量和布局可以獲得良好的均溫性，部分爐型可以優(yōu)于±3℃。

■對于抽真空系統(tǒng)，可以使用不同類型的泵組和所有市場上的品牌；根據(jù)工藝要求，可以獲得的10Pa ~10-5Pa。

■PLC控制的程序順序可確保工藝的全自動化和可重復(fù)性、以及穩(wěn)定的產(chǎn)品質(zhì)量。計算機操作界面和相應(yīng)的數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)可以滿足高可靠質(zhì)量控制的要求。

三、產(chǎn)品特點：

■最高工作溫度 2800°C.

■有效體積從 1 升 到 1立方米 (可以更大，取決于客戶的需求)

■采用獨立加熱器分區(qū)加熱

■在有效空間內(nèi)最佳的均溫性可以達到±3℃

■真空范圍可達到 1·10-5 mbar (1·10-3 Pa).

■能在惰性氣體（氬氣、氮氣或氦氣)環(huán)境下使用，也能采用安全可靠的措施在氫氣環(huán)境下使用

四、產(chǎn)品圖片：