儀器名稱：全自動離子濺射儀 型號：ETD-800
原理：二極直流濺射
儀器名稱：離子濺射儀 型號：ETD-900M
原理：磁控濺射
在磁控濺射中，由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力，它們的運動軌跡會發(fā)生彎曲甚至產
生螺旋運動，其運動路徑變長，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作。同時，經過多次碰撞而喪失能量的電子到達陽極時，已變成低能電子，從而不會使基片過熱。
電壓：-1200 DCV
ETD-900M參數：
主機規(guī)格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）
靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）
靶材：Au（標配）
樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm（D×H）
靶材尺寸：Ф 50mm
真空指示表： 真空度：≤ 4X10-2 mbar
離子電流表： 電流：50mA
定時器： 最長時間：0-360S ?
微型真空氣閥：可連接φ 3mm 軟管
可通入氣體： 多種
電壓： -1600 DCV ?
機械泵：標準配置 2L/S（國產 VRD-8）
適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備。
特點：可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銀等），以達到更細顆粒的涂層。
一鍵式操作，使用方便。
ETD-900M用途：
適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導體材料實驗電極制作。
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