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離子濺射儀 MC1000

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 日立集團(tuán)
  • 品牌
  • 型號(hào)
  • 所在地
  • 廠商性質(zhì) 其他
  • 更新時(shí)間 2023/2/16 10:20:03
  • 訪問次數(shù) 129

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采用磁控型電極，限度地減輕對(duì)樣品的損壞。

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離子濺射儀 MC1000

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離子濺射儀 MC1000

采用磁控型電極，限度地減輕對(duì)樣品的損壞。

  • 特點(diǎn)

  • 規(guī)格

特點(diǎn)

  • 采用LCD觸摸屏，可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件
  • 可處理較厚或較大的樣品(選配件)
  • 記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件

規(guī)格

項(xiàng)目說明
放電類型 磁控二極管放電型(電場(chǎng)垂直于磁場(chǎng))
電極組成 反向平行盤(嵌入磁鐵)
電壓 0.4 kV DC(直流可變)
電流 40 mA DC
噴鍍速率 *1()
[條件]
壓力：7 Pa
放電電流：40 mA
標(biāo)靶與樣品表面之間的距離：20 mm		Pt 靶(選配件) 15 nm/min
Pt-Pd 靶(選配件) 20 nm/min
Au 靶(選配件) 35 nm/min
Au-Pd 靶(選配件) 25 nm/min
樣品尺寸直徑 φ60 mm
高度 20 mm
機(jī)械泵 135/162 l/min (50/60Hz)
靶材*2 Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)
電源要求 單相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線纜(3 m)
尺寸寬度 450 mm
長(zhǎng)度 391 mm
高度 390 mm
重量 主機(jī)：約 25 kg
機(jī)械泵：約 28 kg
*1
： 噴鍍速率僅供參考
*2
： 主機(jī)內(nèi)不包括靶材。請(qǐng)從選項(xiàng)中選擇(鉑，鉑-鈀，金，金-鈀)。

關(guān)聯(lián)產(chǎn)品分類

  • 場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 (FE-SEM)
  • 掃描電子顯微鏡 (SEM)
  • 透射電子顯微鏡 (TEM/STEM)


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