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掠入射平場(chǎng)光柵光譜儀251MX

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公司名稱 上海尤譜光電科技有限公司
品牌
型號(hào)
所在地 上海市
廠商性質(zhì) 其他
更新時(shí)間 2024/2/29 17:27:02
訪問次數(shù) 89

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴。

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掠入射平場(chǎng)光柵光譜儀251MX251MX極紫外掠入射平場(chǎng)光柵光譜儀外形及光路排布251MX采用在軟X射線診斷領(lǐng)域廣受歡迎的掠入射平場(chǎng)光柵架構(gòu)

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掠入射平場(chǎng)光柵光譜儀251MX

251MX極紫外掠入射平場(chǎng)光柵光譜儀外形及光路排布

251MX采用在軟X射線診斷領(lǐng)域廣受歡迎的掠入射平場(chǎng)光柵架構(gòu)。其入射角為87°，確保極紫外波段的反射率；采用變柵距（Variable Line-Space, VLS）光柵的柵線非均勻分布，將羅蘭圓像場(chǎng)矯正為平場(chǎng)，適合直接探測(cè)CCD相機(jī)等平面探測(cè)器采集。多樣化的光柵選擇使得251MX可滿足1~200nm的攝譜需求。光譜儀可容納兩塊光柵，推拉式切換；支持探測(cè)器平動(dòng)以擴(kuò)展攝譜范圍。251MX內(nèi)置零級(jí)擋板，可在保持真空的前提下調(diào)節(jié)擋板位置，以阻擋零級(jí)光。

產(chǎn)品特點(diǎn)

l 1nm ~ 200nm；

l VLS光柵，整個(gè)像面保持高分辨率；

l 無需掃描，穩(wěn)定、便利；

l 1E-6高真空；超高真空可選；

典型應(yīng)用

l 高次諧波

l 極紫外光源研發(fā)

l 激光等離子體、高溫等離子體、Z-Pinch、磁約束等離子體

l X射線激光，自由電子激光

l 極紫外光學(xué)系統(tǒng)測(cè)試

主要參數(shù)

光學(xué)設(shè)計(jì)	掠入射像差校正平場(chǎng)設(shè)計(jì)
入射角	87°
焦面	25mm
探測(cè)器	可平動(dòng)、轉(zhuǎn)動(dòng)
波長(zhǎng)范圍	1nm ~ 200nm，取決于光柵
光柵尺寸	50×30mm
光柵支架	雙位，真空下可切換
零級(jí)擋板	標(biāo)配，真空下可調(diào)
狹縫	0.01 ~ 3mm連續(xù)可調(diào)；高度可置
真空	標(biāo)準(zhǔn)：1E-6 Torr；可選UHV

可選光柵

刻劃密度 (g/mm)	120	300	1200	2400
偏轉(zhuǎn)角（°）	170	170	170	174.4
分辨率（nm）	~0.3	~0.12	~0.028	~0.01
平場(chǎng)范圍（nm）	50~200	20~80	5~20	1~5