金相磨拋機(jī)

金相樣品的制備是通過(guò)切割機(jī)、鑲嵌機(jī)和金相磨拋機(jī)來(lái)完成的,金相樣品的最終質(zhì)量由金相磨拋機(jī)測(cè)定。拋光是金相樣品制備過(guò)程中的重要部分。拋光是為了去除因磨削樣品而產(chǎn)生的磨損痕跡和變形層,并使之成為鏡面光滑的最終過(guò)程。拋光方法包括機(jī)械拋光,電解拋光,化學(xué)拋光和復(fù)合拋光。金相磨拋機(jī)的使用是目前使用泛的拋光方法。其正確的工藝和操作方法是在獲得高質(zhì)量樣品的條件下以及其他條件(例如保留邊緣和石墨以及夾雜物的保留)的條件下獲得的拋光速率。選擇可靠的金相磨拋機(jī)可以提高樣品制備的效率和質(zhì)量,減少樣品的浪費(fèi)率,從而降低成本,提高經(jīng)濟(jì)效益并實(shí)現(xiàn)樣品質(zhì)量的一致高度性。

金相磨拋機(jī)運(yùn)行的關(guān)鍵是設(shè)法獲得的拋光速度,以盡快去除拋光引起的損壞層。同時(shí),拋光損傷層將不會(huì)影響最終觀察到的組織,即不會(huì)造成假組織,這兩個(gè)要求是矛盾的。前者需要使用粗磨料以確保更大的拋光速率以去除拋光損傷層,但拋光損傷層更深;因此,需要使用粗磨料。后者需要使用材料來(lái)使拋光的損傷層變淺,但是拋光速率低。解決這一矛盾的方法是將拋光分為兩個(gè)階段。首先,粗拋光是去除拋光損傷層。此階段應(yīng)具有的拋光速度。次要考慮的是由粗糙拋光引起的表面損壞,但也應(yīng)盡可能小。其次,精細(xì)拋光(或最終拋光)是為了消除由粗糙拋光引起的表面損傷并使拋光損傷最小化。

金相磨拋機(jī)種類(lèi)繁多,主要由電機(jī)驅(qū)動(dòng)的一組拋光盤(pán)組成。拋光光盤(pán)具有單個(gè)或多個(gè)光盤(pán)。通常使用具有兩個(gè)拋光板的雙頭拋光機(jī)。拋光盤(pán)由直徑約200mm的鑄銅或鋁制成。拋光盤(pán)安裝在主軸上(水平和垂直),并在軸承支撐下水平旋轉(zhuǎn)。其轉(zhuǎn)速為約600-1600r / min。拋光機(jī)配有換檔裝置,可以根據(jù)需要將速度調(diào)節(jié)到200-600 r / min。

近年來(lái),隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展,中國(guó)已生產(chǎn)出多種類(lèi)型的金相磨拋機(jī)。其中,有使研磨面以更復(fù)雜的軌跡運(yùn)動(dòng)的金相磨拋機(jī),有以更簡(jiǎn)單的圓形軌跡運(yùn)動(dòng)的金相磨拋機(jī)。根據(jù)該結(jié)構(gòu),一些樣品可以同時(shí)自動(dòng)拋光,也有一些是只能一次拋光一個(gè)樣品。也有專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)和制造的金相磨拋機(jī),可以安裝在普通金相磨拋機(jī)上的自動(dòng)拋光配件。