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全反射X熒光分析技術(shù)

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核心技術(shù):基于第三代半導(dǎo)體自主研發(fā),面向痕量和超痕量元素分析的高靈敏度TXRF技術(shù)的基礎(chǔ)研究,涉及新型光學(xué)設(shè)計(jì)和小型化儀器開發(fā),制樣方法、基體效應(yīng)研究以及與多方法聯(lián)用的研究

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核心技術(shù):


基于第三代半導(dǎo)體自主研發(fā),面向痕量和超痕量元素分析的高靈敏度TXRF技術(shù)的基礎(chǔ)研究, 涉及新型光學(xué)設(shè)計(jì)和小型化儀器開發(fā), 制樣方法、基體效應(yīng)研究以及與多方法聯(lián)用的研究。

1.jpg2.jpg
TXRF技術(shù)原理示意圖基于波導(dǎo)光學(xué)TXRF結(jié)構(gòu)示意圖
3.jpg4.jpg
波導(dǎo)管(waveguide) 結(jié)構(gòu)示意圖Glancing Angle Dependence Of Measured Fluorescence Intensity Of Si And Ca
5.jpg6.jpg
For Multi-element Energy Scale Test Spectrumx-ray Tube Was Operated At 20kv And 500μaMatrix EffectAbsorption And Enhancement


Single element

Cr

Mn

Co

Cu

Ga

Sr

Pb

LLD/ng

0.029

0.021

0.055

0.049

0.052

0.124

0.362

RSD(%, n=7)

0. 72

0.81

121

1.49

1.14

2.63


 

Multi-element

S

Sc

V

Mn

co

Cu

Ga

As

Y

LLD/ng

0.63

0.16

0.15

0.13

0.12

0.16

0.18

0.31

0.88

Other report

1.77

0.87

0. 53

0.35

0.23

0.43

0.27

0.50

0. 37



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