HGK1600℃真空管式氣氛爐的詳細資料：
這款CVD系統(tǒng)集真空管式爐，多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成，可根據(jù)用戶需要設計生產(chǎn)（有雙溫區(qū)、三溫區(qū)、多溫區(qū)），可預抽真空（有高真空、低真空），通多種氣氛（供氣系統(tǒng)有質(zhì)子流量器和浮子流量控制器）。性能可靠?？刂齐娐愤x用模糊PID程控技術(shù)，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能可靠，簡單易操作等特點。CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實驗。