條紋反射測(cè)量是一種高靈敏，非相干的光學(xué)全場(chǎng)測(cè)量技術(shù)。主要用于對(duì)任何材質(zhì)的光潔表面進(jìn)行高精度的曲率和三維坐標(biāo)的測(cè)量。

該系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，它主要由一個(gè)TFT顯示器和一個(gè)高分辨率的CCD照相機(jī)組成。系統(tǒng)還配備了兩只激光二極管，以方便用戶對(duì)被測(cè)物進(jìn)行初始定位。測(cè)量時(shí)TFT上顯示由計(jì)算機(jī)生成的條紋模式，CCD照相機(jī)獲取經(jīng)被測(cè)物表面反射回的條紋圖像。由于物體表面形狀的調(diào)制作用，CCD上得到的將是一幀變形的條紋圖。采用的條紋相移技術(shù)，通過(guò)信號(hào)解調(diào)將直接得到被測(cè)物體表面的法線和梯度分布。在此基礎(chǔ)上進(jìn)行進(jìn)一步的微分和積分操作后，就可得到物體的曲率和三維坐標(biāo)的分布。由于物體到TFT的較大距離，使得表面法線的變化對(duì)反射光線的偏移量有顯著的放大作用，以至系統(tǒng)在物體高度方向的坐標(biāo)分辨率可達(dá)納米量級(jí)。

圖通的非相干光學(xué)測(cè)量技術(shù)，如條紋投影等，對(duì)于光滑表面無(wú)能為力。天文反射系統(tǒng)則充分利用了被測(cè)物體對(duì)光的反射作用，不僅是光滑表面的測(cè)量成為可能，而且將測(cè)量精度提高到相干光學(xué)測(cè)量的水平。同相干測(cè)量相比，該系統(tǒng)得益于VEW公司開(kāi)發(fā)的照相機(jī)和系統(tǒng)校準(zhǔn)技術(shù)，可獲得物體精確的曲率和三維坐標(biāo)的分布，而且受周?chē)h(huán)境的影響很小可以實(shí)現(xiàn)在線測(cè)量。同其他超高精度接觸式三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x相比，該系統(tǒng)更是速度快，數(shù)據(jù)量大的優(yōu)點(diǎn)，可以在幾秒鐘內(nèi)獲得上百萬(wàn)個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)。系統(tǒng)的各系列型號(hào)適用于尺寸，曲率分布，反光率等各不相同的表面，甚至是液體，同時(shí)可根據(jù)用戶需求專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)已成功應(yīng)用鏡片加工設(shè)備的質(zhì)量檢測(cè)（Satisloh公司），精密加工工件表面形狀測(cè)量（不萊梅大學(xué)精密制造實(shí)驗(yàn)室），大型太陽(yáng)能聚光鏡面形測(cè)量等領(lǐng)域。其潛在的應(yīng)用還包括鍍膜，噴漆表面的質(zhì)量控制，表面粗糙度分析等。

該系統(tǒng)的另一個(gè)重要應(yīng)用是對(duì)飛機(jī)表面面形結(jié)構(gòu)缺陷的測(cè)量。通過(guò)比較前后不同時(shí)間段內(nèi)材料形變的變化，從而對(duì)飛機(jī)結(jié)構(gòu)的安全性進(jìn)行評(píng)估。

配置技術(shù)參數(shù)（所有參數(shù)根據(jù)用戶測(cè)量要求可專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)）：

尺寸（桌面型）：500×500×790mm

坐標(biāo)分辨率： 深度方向1nm     橫向：測(cè)量范圍/1392CCD像素

測(cè)量時(shí)間：1s-600s

測(cè)量范圍：110×80mm