當(dāng)前位置:儀器網(wǎng) > 產(chǎn)品中心 > 行業(yè)專用儀器>其它行業(yè)專用儀器>其它> LINT-208G自動型WAFER平坦度測試儀
返回產(chǎn)品中心>LINT-208G自動型WAFER平坦度測試儀
參考價 | 面議 |
- 公司名稱 北京三禾泰達技術(shù)有限公司
- 品牌
- 型號
- 所在地 北京市
- 廠商性質(zhì) 其他
- 更新時間 2024/12/12 15:07:56
- 訪問次數(shù) 18
當(dāng)前位置:儀器網(wǎng) > 產(chǎn)品中心 > 行業(yè)專用儀器>其它行業(yè)專用儀器>其它> LINT-208G自動型WAFER平坦度測試儀
返回產(chǎn)品中心>參考價 | 面議 |
測量原理
激光干涉法適用范圍 可用于測量工件尺寸為 Φ2---Φ8(INCH)直徑的圓型晶片
測量精度及量程
1、關(guān)于厚度
厚度量程:100---2000um,測量精度與 WAFER 表面光潔度有關(guān),即: 測量重復(fù)精度(砷化鎵等二代半導(dǎo)體類雙拋表面 WAFER):±0.3um ; 測量重復(fù)精度(碳化硅等三代半導(dǎo)體類研磨表面 WAFER): ±0.5um ; 測量重復(fù)精度(藍寶石類單拋表面 WAFER):±0.5um ; 2、關(guān)于平面度/表面形態(tài)參數(shù)測量精度 |
測量精度:±0.06μm 重復(fù)性精度:±0.03μm 分辨率:±0.005μm
像素點數(shù):≥250000 3、分選速度
為了保證不造成對 WAFER 表面造成損傷,研究人員建議的安全分選速度為: 100 片/小時左右。*您想獲取產(chǎn)品的資料:
個人信息: