C-33型 國(guó)產(chǎn)雙面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備

主要用途和主要性能指標(biāo)：

C-33型國(guó)產(chǎn)雙面光刻機(jī)主要用途：

C-33型國(guó)產(chǎn)雙面光刻機(jī)被廣泛應(yīng)用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、以及聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。它的高級(jí)找平機(jī)構(gòu)使其適用于各種材料的曝光，包括硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片等。

雙面對(duì)準(zhǔn)單面曝光：這臺(tái)機(jī)器具備雙面對(duì)準(zhǔn)單面曝光功能，可以在一個(gè)工藝中對(duì)準(zhǔn)并曝光兩側(cè)，提高了生產(chǎn)效率。

普通光刻機(jī)工作：除了雙面對(duì)準(zhǔn)單面曝光，它還可以執(zhí)行普通光刻機(jī)的各種工作任務(wù)。

雙面對(duì)準(zhǔn)精度檢查：此外，它還充當(dāng)了一個(gè)檢查雙面對(duì)準(zhǔn)精度的檢查儀，確保產(chǎn)品的高質(zhì)量和精確度。

C-33型國(guó)產(chǎn)雙面光刻機(jī)主要性能指標(biāo)：

高均勻性LED曝光頭：

光強(qiáng)：不超過(guò)20毫瓦

曝光面積：100毫米×100毫米

曝光不均勻性：不超過(guò)3%

曝光強(qiáng)度：可調(diào)至不低于30毫瓦/平方厘米

紫外光束角度：不超過(guò)3度

紫外光中心波長(zhǎng)：365納米、404納米、435納米可選擇

紫外光源壽命：不低于2萬(wàn)小時(shí)

電子快門(mén)精準(zhǔn)控制

對(duì)準(zhǔn)精度：1微米

曝光精度：1微米

套刻精度：1微米

觀察系統(tǒng)：

采用上下各兩個(gè)單筒顯微鏡，每個(gè)上裝有四個(gè)CCD攝像頭，通過(guò)視屏線連接到計(jì)算機(jī)和液晶顯示屏。

單筒顯微鏡可連續(xù)變倍，范圍從0.7倍至4.5倍。

CCD攝像機(jī)靶面對(duì)角線尺寸：1/3英寸，6毫米。

使用19英寸液晶監(jiān)視器，數(shù)字放大倍率可達(dá)57倍。

觀察系統(tǒng)的放大倍數(shù)范圍：最小40倍，256倍，或者介于91倍至570倍之間。

右側(cè)板上設(shè)有一個(gè)視屏轉(zhuǎn)換開(kāi)關(guān)，向左為下面兩個(gè)CCD，向右為上面兩個(gè)CCD。

計(jì)算機(jī)硬件和軟件系統(tǒng)：

鼠標(biāo)單擊“開(kāi)始對(duì)準(zhǔn)”按鈕，可以將監(jiān)視屏上的圖形記錄下來(lái)，并將其處理為透明的，以便對(duì)新進(jìn)圖形進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)。

鼠標(biāo)雙擊左側(cè)或右側(cè)的圖形，可以分別在整個(gè)屏幕上顯示左側(cè)或右側(cè)的圖形。

特殊的板架裝置：

該裝置可以裝入152×152的板架，并對(duì)版進(jìn)行真空吸附。

裝置安裝在機(jī)座上，能夠圍繞點(diǎn)A進(jìn)行翻轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，相對(duì)于承片臺(tái)進(jìn)行上下翻轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，以便對(duì)上下版和上下片進(jìn)行操作。

該裝置可以反復(fù)翻轉(zhuǎn)，回到承片臺(tái)上的平面位置，重復(fù)精度不超過(guò)±1.5微米。

此裝置具有補(bǔ)償基片楔形誤差的功能，確保上下版平面與上下片平面緊密接觸，提高曝光質(zhì)量。

承片臺(tái)調(diào)整裝置：

配備Φ75和Φ100兩種承片臺(tái)，每個(gè)承片臺(tái)都有兩個(gè)長(zhǎng)方形孔，下面的兩個(gè)CCD可以通過(guò)這些孔觀察到板或片的下平面。

承片臺(tái)可以進(jìn)行X、Y、Z和θ運(yùn)動(dòng)，X、Y、Z的運(yùn)動(dòng)范圍為正負(fù)5毫米，θ運(yùn)動(dòng)范圍為正負(fù)5度。

承片臺(tái)密著環(huán)可以實(shí)現(xiàn)“真空密著”，真空密著力可調(diào)，分為硬接觸、軟接觸和微力接觸。