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光譜型橢偏儀Ellipsometer

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橢圓偏光法是基于測量偏振光經(jīng)過樣品反射后振幅和相位的改變研究材料的性質(zhì)。光譜型橢偏儀Ellipsometer在全部光譜范圍內(nèi)(而不是特定的波長)測量Psi和Delta,通過構(gòu)建物理模型對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合分析,終得到膜厚、折光系數(shù)、吸收、粗糙度、組成比率等結(jié)果。

詳細(xì)信息 在線詢價(jià)

儀器特點(diǎn):

可直接得到光學(xué)參數(shù)、n值(折射率)、k值(吸收率)及厚度,并可作在線即時(shí)測量;

 可作各光學(xué)參數(shù)的整理歸檔,并以各種不同模式輸出;

 非接觸式測量,不刮傷損壞測試樣品;

 體積小巧:由高性能的微型光纖光譜儀構(gòu)成分光逐漸,體積小巧;

 使用簡單方便:由計(jì)算機(jī)控制測量,只需按一個(gè)按鍵,即可完成薄膜特性檢測。

 

特性參數(shù):

 

規(guī)格型號(hào)

光譜型橢偏儀Ellipsometer

厚度范圍

1nm~10um

厚度分辨率

0.1nm (1埃)

重現(xiàn)性:

70nm SiO2 on Si
cos(Delta) ±0.0003, tan(Psi) ±0.0002

光斑大小

300×1200 um(小尺寸光斑可選配)

光學(xué)參數(shù)

可得出:n(折射率)、k(吸收率)值

折射率精度

0.005

光譜范圍

400~1000nm (可選290~1050nm)

光譜分辨率

1 nm

入射角度

70°(其他角度可選配)

薄膜層數(shù)

> 3層

參考測量

不需要參考,直接測量

膜層材料

波片、光學(xué)材料等

透明膜

可以測透明膜

測量速度

7~13秒

樣品定位大允許誤差

高度允許誤差±3mm;光入射角允許±1°

不需進(jìn)行高度和傾斜角調(diào)整

顯微鏡

可與顯微鏡匹配使用

可視

可顯微觀察,與顯微鏡匹配使用

掃描測量

可以掃描測量,掃描直徑6英寸或12英寸

真空應(yīng)用

由用戶自行選購后,可以在真空環(huán)境中使用

SpecEL-V1.1

操作界面友好,使用簡單的測量軟件。

測量膜厚、n值、k值、膜層結(jié)構(gòu)編輯功能

可用于:在線過程監(jiān)控或離線產(chǎn)品檢測

 

 

橢偏儀原理:

橢圓偏光法是基于測量偏振光經(jīng)過樣品反射后振幅和相位的改變研究材料的性質(zhì)。光譜型橢偏儀Ellipsometer在全部光譜范圍內(nèi)(而不是特定的波長)測量Psi和Delta,通過構(gòu)建物理模型對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合分析,終得到膜厚、折光系數(shù)、吸收、粗糙度、組成比率等結(jié)果。

 


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