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磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介:磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設(shè)備,適用于在 PET 和無(wú)紡布上鍍制金屬膜(銅,鋁等)功能性薄膜,設(shè)備采用*的磁控濺射鍍膜技術(shù),配備直流、射頻磁控濺射系統(tǒng),適合鍍制軟磁合金膜、金屬膜、導(dǎo)電膜、合金膜、介質(zhì)膜等。

技術(shù)參數(shù)

卷膜條件

鍍膜材料PET 和無(wú)紡布

適用制膜:軟磁合金膜、金屬膜、導(dǎo)電膜、合金膜、介質(zhì)膜等。

基材厚度125~300μm

有效鍍膜寬幅≤800 mm

大卷繞直徑Φ400 mm

卷繞芯軸內(nèi)徑4 寸

基材卷繞速度1~2 m/min

基材卷繞張力30 ~ 200 N

張力系統(tǒng)交流伺服

濺鍍方式單面

真空條件

極限真空(空載、潔凈)8×10-4Pa

恢復(fù)真空時(shí)間(空載、清潔)105Pa ~ 5×10-3Pa≤60 min

系統(tǒng)真空漏率1.0×10-10 Pa.m3/s

磁控濺射陰極數(shù)量3 個(gè)

膜均勻性偏差≤±10%


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