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GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀

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產品簡介:GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀依據(jù)二極DC直流濺射原理(二極濺射鍍膜是指在真空環(huán)境中利用粒子轟擊靶材產生的濺射效應,使得靶材原子或分子從固體表面射出,在基片上沉積形成薄膜的過程。屬于物理氣相沉積(PVD)制備薄膜技術的一種。)設計而成的簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設備,適用于實驗室各種復合膜樣品的制備,以及非導體材料實驗電極的制作。GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀可用于實驗室制備掃描電鏡樣品使用,且設備體積小巧,節(jié)約實驗室空間;操作簡單,適合初學人員使用。

 

產品名稱

GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀

產品型號

GSL-1100X-SPC-16M

安裝條件

本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:設備需選配自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)

2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地

3、氣:設備腔室內需注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(帶減壓閥)

4、工作臺:尺寸600mm×600mm×700mm承重50kg以上

5、通風裝置:不需要

主要特點

1設有真空表濺射電流表,可實時監(jiān)控工作狀態(tài)。

2、通過調節(jié)濺射電流控制器、微型真空氣閥,控制真空室壓強、電離電流及選擇所需要的電離氣體,獲得鍍膜效果。

3、鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設計,可保證長期使用不出現(xiàn)玻璃鐘罩崩邊現(xiàn)象。

4陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經(jīng)久耐用。

5根據(jù)電場中氣體電離特性,采用大容量濺射真空室和相應面積濺射靶,使濺射鍍層更均勻純凈。

6、濺射頭采用Peltier制冷技術,可得到高性能、精細顆粒的涂層。

7、可用水冷濺射頭、水冷載物臺。

技術參數(shù)

1、Ø50mm

2、真空室Ø160mm×120mm

3、真空度:≤4×10-2mbar

4max電流50mA可選100mA

5、可設定極限時間:9999s

6、微型真空氣閥:連接Ø3mm軟管

7、極限電壓:1600V  DC

8、機械泵:2L/s

產品規(guī)格

尺寸:360mm×300mm×380mm。

整體重量:50Kg

主機凈重:15Kg

標準配件

1

金靶材

1

2

進氣針閥

1

3

保險絲

2

可選配件

金、銦、銀、鉑等各種靶材

 

 


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