PICOSUN™R-200標準型 PICOSUN™R-200標準型ALD系統(tǒng)是一款研發(fā)型產(chǎn)品， 應用領(lǐng)域廣泛， 例如：電子元器件， MEMS器件、顯示器、發(fā)光二極管、激光器以及透鏡、光學部件、珠寶、硬幣、醫(yī)療植入物等3D部件。

PICOSUN™R-200標準型ALD系統(tǒng)是ALD科研  設(shè)備市場的。它已經(jīng)成為一些創(chuàng)新公司 和研究機構(gòu)的研發(fā)工具。

靈活的設(shè)計確保沉積高質(zhì)量的ALD薄膜，超靈活的系統(tǒng)配置也能滿足用戶未來的需求和應用。的熱壁設(shè)計、獨立的前驅(qū)體管 路和特殊的載氣設(shè)計，使得無顆粒沉積廣泛應用于平面晶圓、3D基片和所有納米尺度的  材料。即使在挑戰(zhàn)性的多孔材料、超高深 寬比和納米顆粒表面沉積， 系統(tǒng)都能實現(xiàn)的均勻性， 這些都歸功于我們的技術(shù)  Picoflow™。Picosun™R-200標準型系統(tǒng)配備功 能強大和易于更換的液體、氣體和固體前驅(qū)體 源。系統(tǒng)可集成手套箱， 粉末反應腔和各種在 線分析系統(tǒng)， 使您的研究變得高效和靈活。 即 使將來您改變研究領(lǐng)域， 它仍然會是您幫手！

技術(shù)參數(shù)：

襯底尺寸和類型

?   50-200 mm/片

?   156 mm x 156 mm太陽能硅片

?   3D 復雜表面襯底

?   粉末與顆粒

?    小批量

?    多孔， 通孔， 高深寬比（HAR）樣品 （可達1:2500）

工藝溫度

?    50 – 500°C

沉積材料

?    Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2, AlN, TiN, 以及金屬 Pt 或者 Ir

基片加載

?    氣動升降，手動加載

?    預真空室安裝磁力操作機械手（Load lock）

前驅(qū)體

?    液態(tài)， 固態(tài)， 氣態(tài)， 臭氧源

?    4根獨立源管線， 最多加載6個前驅(qū)體源

選件

?     PICOFLOW™擴散增強器， RGA、N2發(fā)生器、尾氣處理器、定制設(shè)計，手套箱集成（用于惰性氣體下裝載）