1、產(chǎn)品概述：本系列產(chǎn)品是模擬大氣中含鹽微小液滴所構(gòu)成的彌散系統(tǒng)的設(shè)備，被廣泛應(yīng)用于對電子、電工及汽車、摩托車、五金工具等產(chǎn)品、零部件、材料進(jìn)行鹽霧腐蝕試驗

1、產(chǎn)品概述：
本系列產(chǎn)品是模擬大氣中含鹽微小液滴所構(gòu)成的彌散系統(tǒng)的設(shè)備，被廣泛應(yīng)用于對電子、電工及汽車、摩托車、五金工具等產(chǎn)品、零部件、材料進(jìn)行鹽霧腐蝕試驗。
 
 
2.設(shè)備特點及用途：
2.1. 試驗箱結(jié)構(gòu)設(shè)計合理，配套產(chǎn)品和功能元器件具有水平，能夠適應(yīng)長期穩(wěn)定、安全、可靠的試驗需求。且使用、操作、維修方便，使用壽命長，造型美觀，有良好的用戶界面，使用戶的操作和監(jiān)測都更加簡單和直觀。
2.2. 設(shè)備主要部件選用國際國內(nèi)品牌廠家的優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品，確保整機質(zhì)量性能。
3.執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：
可按  ISO9227NSST GMW14872  進(jìn)行中性鹽霧試驗（NSS）、醋酸鹽霧試驗（ASS）、銅加速醋酸鹽霧試驗（CASS），也可按 進(jìn)行循環(huán)腐蝕試驗。
3.1. GB/T10587-2006 鹽霧試驗箱技術(shù)條件。
3.2. GB/T10125－97 人造氣氛腐蝕試驗 鹽霧試驗。
3.3. GB 2423.17-93《電工電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗規(guī)程 試驗Ka：鹽霧試驗方法》。
3.4. GB 6460-86 金屬覆蓋層 銅加速醋酸鹽霧試驗（CASS）。
3.5. GB 6459-86 金屬覆蓋層 醋酸鹽霧試驗（ASS）。
3.6. GJB150、ASTM B117、ASTM B368、ASTM B380、ASTMD1735、ASTM D2247、ASTM G85 A1、 GM4465P、ISO9227、DIN 50021。
4.主要技術(shù)規(guī)格及參數(shù)：
4.1 工作室尺寸： 600mm x 500mm x600mm  （長*寬*高）
4.2   外箱尺寸約：2050mmx 1350mm x1300 mm （長*寬*高）
（具體外箱尺寸按實際尺寸）
4.3溫度范圍：樣品室：+35℃～ +75℃可控，精確度不低于±1℃ 。
飽和筒：+47℃～+63℃。
4.4 溫度均勻度：≤2℃。
4.5 溫度波動度：≤1.0℃。
4.6濕度范圍：  （30%～98%）±2 %R.H。
4.7 濕度偏差：75%R.H.以下 ±5%；75%R.H.以上 +2、-3% RH。
4.8鹽霧沉降量：鹽霧沉降量從 1.0/h～2ml/ 80cm2 h可調(diào)整，鹽霧噴霧均勻。
4.9噴霧方式：氣動式，連續(xù)、間斷噴霧可隨意。
4.10使用環(huán)境溫度：0 ～ 35℃。
4.11鹽霧階段（以下 鹽霧 濕熱 干燥測試按客戶要求）
時間： 2小時          溫度：（35~50?C）   濕度： 85-95%R.H
 4.12 濕熱：(冷凝水）
 時間：21小時~24小時  溫度：（ 40±2）?C   濕度：(95±2 )%R.H
 4.13 干燥階段
 時間：1小時          溫度: 70±2?C        濕度：(30±2 )%R.H
                  
 
5.試驗箱主要結(jié)構(gòu)組成：
5.1 試驗室： 采用新型耐高,耐低,耐酸堿性材料壓模而成.內(nèi)外箱之間以發(fā)泡棉保溫。
5.2 鹽溶液補充槽：方便隨時補充鹽溶液。
5.3 飽 和 桶：采用SUS304高級不銹鋼板，耐高溫耐高壓性能好，提供與箱內(nèi)一致的濕空氣。
5.4 試驗室樣品架：平面網(wǎng)架，如需一定角度另配一組角度平面架，具有耐腐蝕、耐承重，放置試件數(shù)量多并任意選擇15°、30°擺放試板。
5.5 加 熱 方 式：本系列試驗箱箱內(nèi)鹽霧試驗溫度采用箱體夾層內(nèi)部加熱加溫方式，箱體溫度更加均勻穩(wěn)定,干式鹽霧試驗（做鹽霧試驗時，箱體內(nèi)部可以不加水）
5.6 加 濕 系 統(tǒng)：由加濕桶的加濕管導(dǎo)入工作室在由工作室的風(fēng)機進(jìn)行均勻攪拌. 濕度采用干濕球溫度表示。
5.7 空氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)：本系統(tǒng)由調(diào)節(jié)腔、干燥加熱器、加濕器擴展管、離心風(fēng)機等組成， 目的是將在調(diào)節(jié)腔內(nèi)調(diào)節(jié)好的干溫、濕空氣經(jīng)過充分?jǐn)嚢韬?，送入工作室?nèi)， 進(jìn)回風(fēng)口，送回調(diào)節(jié)腔內(nèi)繼續(xù)循環(huán)，周而復(fù)始。
5.8 箱 蓋：具有足夠的強度和剛度，可觀察噴霧狀況。采用氣動撐桿開關(guān)箱蓋，方便自如。 箱蓋開啟自動保護(hù)，重新蓋上后自動從斷點處啟動循環(huán)腐蝕試驗 確保冷凝水不滴落在試件上。
5.9 設(shè)有防止箱內(nèi)壓力升高的平衡排氣孔，排氣時不使工作空間氣流過分揣動。
5.10 設(shè)有刻度式分液漏斗，收集并能在箱內(nèi)直觀鹽霧沉降量。
5.11 設(shè)有兩個噴霧塔，能更均勻、更快的滿足鹽霧沉降量需求。
6.供氣系統(tǒng)：
6.1 氣源由空氣壓縮機（客戶自備）產(chǎn)生的空氣供應(yīng)，經(jīng)一級空氣凈化過濾，二級氣壓調(diào)整后 送入飽和桶內(nèi)。
6.2 本試驗箱設(shè)有兩個空氣調(diào)壓閥，當(dāng)接入空氣壓縮機提供的氣壓時，進(jìn)入氣體管路的個調(diào)壓閥的壓力應(yīng)調(diào)整至 0.2-0.4Mpa 之間。
6.3 進(jìn)入噴嘴的第二個調(diào)壓閥（即調(diào)節(jié)噴霧壓力的調(diào)節(jié)閥），壓力應(yīng)調(diào)整至在 0.07—0.17MPa之間。
6.4 氣路系統(tǒng)：穩(wěn)定可靠的進(jìn)口氣路元器件。
7.噴霧系統(tǒng)：噴咀可拆卸，方便清理
7.1 采用氣流式噴霧方式和利用虹吸原理，將吸取的鹽溶液經(jīng)噴嘴使其霧化，霧化粒度均勻， 可確保試驗進(jìn)行的連續(xù)性、穩(wěn)定性。
7.2 采用無結(jié)晶噴嘴，檔板式噴霧裝置，經(jīng)擋板擴散后均勻而自由跌落在試驗箱內(nèi)，使鹽霧沉降量達(dá)到規(guī)定的值內(nèi)。
7.3 噴霧前的鹽水是經(jīng)過鹽水存儲箱桶注入預(yù)熱槽，進(jìn)行預(yù)熱再導(dǎo)入噴嘴。使恒溫后的工作室 溫度波動性更加小。
7.4 鹽霧沉降量：可根據(jù)調(diào)節(jié)噴嘴壓力的大小 1.0--2.0 ml80cm 2/ 1hr ( 16hr 平均量)，檔 板的￠調(diào)節(jié)角度來控制鹽霧沉降量，以便使鹽霧沉降量達(dá)到1-2ml/cm2·h。
7.5 噴霧壓力可以調(diào)整至 0.8～1.5MPa。
8.控制系統(tǒng)：
8.1 溫濕度控制器
●顯示器：5.7”320×240 點陣彩色液晶顯示。 運行方式：定值或程序。
●設(shè)定方式：中文菜單，觸摸屏人機交互接口方式輸入 程序容量：可儲存 120 組、1200 段試驗程序。
●程序長度：每組程序最多 99 段 循環(huán)次數(shù)：每個程序段可循環(huán)999 次。
●輸 入：PT100 鉑電阻。
●其它功能：設(shè)備具有超溫，風(fēng)機過熱、過流等多種報警保護(hù)功能，而控制器具備 的故障自診斷功能可保證一旦設(shè)備出現(xiàn)異常，將切斷主要部件的電源，同時發(fā)出報警信號。
8.2.測量數(shù)據(jù)采集：PT100 鉑電阻。
8.3.其它執(zhí)行器件：法國“施奈德”交流接觸器、開關(guān)、按鈕、日本富士小型繼電器等產(chǎn)品。
8.4 加熱槽液體膨脹安全溫度控制器 30-150℃。
8.5 飽和空氣桶液體膨脹安全溫度控制器 30-150℃。
8.6 一級壓力精密調(diào)整: 含空氣濾清器。
8.7 壓力表: 2.5kg/cm2 精密度 0.01kg/cm2 IK – 2.5。
9.安全保護(hù)裝置：
9.1 低水位時自動切斷電源裝置
9.2 超溫自動斷電裝置
9.3 聲光報警報裝置
9.4 飽和桶超溫保護(hù)
9.5 鹽液低水位警示裝置
9.6 純水水位標(biāo)志及缺乏報警
9.7 飽和桶低水位報警裝置
10．附件：
10.1 量筒 2 只
10.2標(biāo)準(zhǔn) 80cm2 鹽霧收集裝置 2 套
10.3 無結(jié)晶玻璃噴嘴 2 支
10.4 濕球杯 1 只
10.5 快速排霧系統(tǒng) 1 組
10.6氯化鈉(NaCl)500g 裝 6 瓶
氫氧化鈉(NaOh)500g 裝 1 瓶
試紙 1 盒
藥匙 1 支
吸管 1 支
11.使用條件：
11.1 電源：AC380V 50Hz（三相四線）：電壓允許波動范圍為 AC(380±38) V；頻率允許波 動范圍為（ 50±0.5)Hz。
11.2 使用環(huán)境：可允許使用溫度范圍：0℃ - 30℃；性能保證范圍：+ 5℃～+ 20℃；相對濕度：≤90%RH。
11.3 氣源：0.4MPa。
11.4 場地：地而平整，通風(fēng)良好；留有適當(dāng)?shù)氖褂眉熬S護(hù)空間。